高功率脈衝磁控濺射沉積AlSiN薄膜改變N2/Ar之微結構與機械性質影響

摘要：

从I-V特性分析结果显示，AlSiN薄膜随着氮氩比例增加，瞬间电流随之提高：而靶材有效面积瞬间功率密度，从2618W/cm2增加至3410W/cm2。从XRD、TEM、XPS分析结果显示，AISiAl薄膜随着氮氩比例增加，薄膜结构从含些奈米铝矽结晶金属氮化物转变为c-AiN与a-Si3N4的奈米复合薄膜，最后转为非晶结构。从奈米压痕分析结果显示，随着氮氩比例增加到45％，硬度从1.1GPa上升至20.6GPa，因固溶强化与品粒插化之影响。在大气环境进行磨耗分析，AlSiN薄膜在氮氦比例25%时，具有最低之平均摩擦系数0.3。

关键词： 氮化硅铝薄膜 脉冲磁控溅射 微结构 机械性质

作者: 楊復期

作者单位: 明志科技大學 薄膜科技與應用中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届海峡两岸薄膜科学与技术研讨会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 79-82

在线出版日期: 2016-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）