MASS-SPECTROMETRIC PLASMA-DIAGNOSTICS

摘要：

Plasma Process Monitor 7 Applications for example DC-Plasma pressure below 10-2 mbar RF-Plasma Process-Pressure 10 mbar and up to 1000 mbar how to do Time-Resolved-Measurements

作者: Gunter J.Peter

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国等离子体科学技术会议

会议地点: 成都

会议语种:英文

页码: 1-22

在线出版日期: 2015-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）