单层膜特性对Low-E性能的影响
本章对离线低辐射薄膜中使用的部分材料——银层、氧化锌、氮化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛进行研究，分析其对膜层的影响或其工艺条件对单层膜的影响，结果可总结为：控制银层厚度为18nm，增加溅射气体量，溅射气压由0．5Pa提高至4Pa，Low-E膜面电阻变差。银层溅射气压的升高，Low-E膜面电阻随着变差。氮化硅厚度的增加，有助于提高Low-E膜钢化性能的稳定性。氧化锆膜层作为保护层，可有效提高Low-E膜抗划伤性能。氧化锡在反应溅射中存在“迟滞效应”，增加氧气量，使氧化锡完全处于氧化态溅射，对Low-E膜的性能稳定是有利的。氧化钛膜层在20～30nm之间时，膜层厚度的增加，可提高Low-E产品可见光的透过率。
镀膜玻璃 单层膜层 溅射效率 导电率 稳定性
陈波
上海耀皮玻璃集团股份有限公司 上海市 201203
国内会议
杭州
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81-88
2015-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）