我国直流电弧等离子体喷射金刚石膜制备技术历史、现状与趋势
在热丝CVD(HFCVD)、微波等离子体CVD(MWCVD)、直流电弧等离子体喷射(DC arc plasma jet)和燃烧火焰沉积(flame deposition)4种应用最广泛的金刚石膜制备方法中,直流电弧等离子体喷射被认为是最有工业化应用前景的技术.但由于早期的基于超音速工业等离子体炬的直流电弧等离子体喷射尽管沉积速率非常高,但沉积面积很小,均匀性很差,因此直到21世纪初也未能得到工业化应用.在中国863计划的大力支持下,北京科技大学和河北省科学院紧密合作,采用具有中国独立知识产权和特色的磁控长通道旋转电弧等离子体炬和半封闭式气体循环技术,于1995年年底研制成功了100千瓦级高功率直流电弧等离子体喷射金刚石膜沉积系统.经过十几年持续不断的改进和完善,目前已形成系列化的装备,适合科研和工业化大规模生产的需求.目前的技术水平已可制备和工业化生产包括工具级、热沉级和光学级大面积高质量金刚石自支撑膜,并已在国内外市场销售.本文对中国直流电弧等离子体喷射技术的历史、现状和发展趋势进行了综述.
金刚石膜 直流电弧等离子体喷射 沉积速率 沉积面积很小 均匀性
吕反修
北京科技大学材料学院
国内会议
桂林
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255-262
2014-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）