立方氮化硼膜的研究进展与应用
立方氮化硼(cBN)是一种高硬度、耐辐射、耐腐蚀、抗高温的宽禁带(Eg=6.4eV)多功能性材料,因其在机械、电子、物理化学等方面独特的性质,高品质cBN薄膜、厚膜以及外延生长一直是材料科学等领域的研究热点和难点之一.本文在对国内外cBN薄膜的最新研究进展及多功能性应用等方面进行了系统的综述,提出了cBN膜工业化亟待解决的基本问题,即结晶度差、内应力高、稳定度低等问题,并且详细介绍了cBN膜在多功能应用领域里的研究进展.
立方氮化硼膜 外延生长 刀具涂层 半导体掺杂 表面功能化
殷红
吉林大学超硬材料国家重点实验室
国内会议
桂林
中文
287-293
2014-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）