ALD Al2O3对晶硅表面钝化效果的研究

摘要：

本文较系统的研究了ALD方法Al2O3厚度、淀积模式、晶面、退火温度和时间对钝化效果的影响。ALD的Plasma模式淀积Al2O3的速率相对较快，且尤其适合粗糙的金字塔表面的晶硅样品。对于市场上普通的太阳能级单晶硅片，亦可以获得高达263uS的少子寿命。

关键词： 太阳电池 晶体硅 原子层沉积 氧化铝

作者: 李成栋 陆嘉文 余林蔚 徐骏

作者单位: 南京大学电子科学与工程学院,固体微结构物理国家重点实验室,南京210046

会议类型: 国内会议

会议名称: 2015中国光伏大会暨第十五届中国光伏学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 10-11

在线出版日期: 2015-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）