CH3NH3PbI3/n-Si异质结太阳电池的设计与模拟
本文采用wxAMPS软件模拟CH3NH3Pbl3/n-Si异质结太阳电池的性能,探究CH3NH3Pbl3薄膜的厚度、CH3NH3Pbl3和硅片的掺杂浓度、界面态对电池性能的影响。表明CH3NH3Pbl3薄膜的最佳厚度为50nm,薄膜的掺杂浓度应该不高于1×l015cm-3,n-Si最佳掺杂浓度为l×l017cm-3。而且,降低CH3NH3Pbl3/n-Si界面缺陷态密度对提高电池的开压及效率具有重要意义。考虑界面缺陷态的影响,进一步优化背表面的复合速率,CH3NH3Pbl3/n-Si异质结太阳得到电池的理想效率为20.43%。
异质结太阳电池 结构设计 开路电压 转换效率
包杰 吴伟梁 沈辉
中山大学太阳能系统研究所,广州510006
国内会议
北京
中文
268-271
2015-10-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)