氢气流量对化学气相沉积钽涂层的影响

摘要：

利用TaC15-H2-HCl反应体系,以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积钽涂层.研究了氢气流量对钽的沉积速率、涂层表面形貌、择优取向、密度和硬度的影响.研究结果表明:随着氢气流量的增加,沉积速率加快,晶粒尺寸增大,涂层表面呈类金字塔形,由体心立方结构的钽(α-Ta)构成,涂层(200)晶面方向生长最快,氢气流量变化对涂层硬度及密度影响不明显.

关键词： 钼基体 钽涂层 化学气相沉积法 氢气流量

作者: 蔡宏中 易健宏 魏巧灵 陈力 魏燕 郑旭 胡昌义

作者单位: 昆明理工大学材料科学与工程学院,云南昆明6500093;昆明贵金属研究所,稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,云南昆明650106 昆明理工大学材料科学与工程学院,云南昆明6500093 昆明贵金属研究所,稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,云南昆明650106

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国有色金属学会第九届学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 231-234

在线出版日期: 2013-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）