陶瓷空心阴极电子枪在离子镀膜领域的应用
空心阴极放电(Hollow Cathode Discharge,HCD),具有低电压、大电流、离化率高、粒子能量大、设备简单、成本低和无公害等优点,近年来被广泛应用于真空冶炼,半导体,核物理,离子镀等众多领域.尤其是做为真空离子镀膜机的离化和加热源,更是被当做一种纯熟的技术在国内外大量的使用着.空心阴极镀膜设备就是利用电子束加热、蒸发、沉积金属。被沉积金属迅速融化、蒸发、离化，与反应气体的离子一起被偏压电源引至工件表面，形成膜层。因膜层完全是源子态堆积生长，没有多弧离子镀的液滴和大颗粒，所以具有膜质细腻致密、结合力强、色泽鲜艳、光洁度好、硬度高等诸多优越特性。空心阴极电子枪可以完成对工件加热和清洗的任务，又可以与多弧或溅射靶并用，起到减少大颗粒和提高离化率的作用，充分发挥了空心阴极电子枪的优异特性。
离子镀 空心阴极电子枪 微观结构 离化率
彭弘建
深圳日清真空技术有限公司,广东深圳518104
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广东肇庆
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6-10
2012-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）