国内溅射靶材发展与应用
20世纪90年代以来靶材已蓬勃发展成为一个专业化产业,中国及亚太地区靶材的需求占有世界70％以上的市场份额.大量不同的沉积技术用来沉积生长各种薄膜,而靶材是制作薄膜的关键,品质的好坏对薄膜的意义重大.常用靶形有电弧靶、平面靶、旋转管靶。靶材质量评判较为严格，要求杂质及氧含量低、纯度高;致密度高;成分与组织结构均匀;晶粒尺寸细小。采用专利特殊绑锭方法制做粉末冶金直冷钛铝旋转管靶，其微观结构合理，可以达到密封和防水效果。硅合金靶材主要是沉积超硬膜方面的靶材，在镀膜时是多种化合物共沉积的薄膜，这种金属碳化物陶瓷与碳化硅交替沉积和咬合的薄膜不仅提高了硬度，而且还保持了碳化硅表面磨擦系数很低的特性。水晶镀膜主推是旋转管靶和平面靶。以Cr-Si靶材为例，研究其玫瑰金镀层成分随深度的变化，结果表明，镀层最表面的成分，主要是吸附的碳和氧;刻蚀至15nm深处，其成分是金和铜，是玫瑰金色的金合金主要成分;刻蚀至80nm深处，成分主要是钛和氧，是玫瑰金层下的底层。
薄膜材料 沉积技术 靶材 质量标准
周鸿奎
深圳市矽谷溅射靶材有限公司,广东,深圳518104
国内会议
广东肇庆
中文
34-40
2012-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）