工作压强对室温制备AZO薄膜性能的影响

摘要：

室温条件下,采用射频磁控溅射法在普通玻璃基片上制备了AZO透明导电薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)和四探针对不同工作压强下所得的样品进行了结构、电学和光学性能的测量.结果表明:所制备的AZO薄膜均具有六角纤锌矿结构,沿c轴择优取向生长;在可见光范围内,薄膜平均透过率约为80％;随着工作压强的降低,薄膜的电阻率呈下降趋势.

关键词： 导电薄膜 氧化锌 铝掺杂 磁控溅射 作压强 微观结构 光电性能

作者: 张俊双 叶勤 曾富强 王权康

作者单位: 暨南大学物理系,广东广州510632

会议类型: 国内会议

会议名称: 广东省真空学会2010年年会暨广东省真空与低碳技术交流会

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 45-48

在线出版日期: 2010-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）