等离子抛光在真空镀膜前处理中的应用
本文将在等离子抛光的工作原理、应用优势以及在表面处理行业的应用来说明它与真空镀膜的协调性.等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。等离子抛光采用的抛光技术是一种完全不同于传统方法的新型抛光技术，它是根据电化学原理与化学反应原理而研发设计的。其抛光技术不使用对环境有污染和损害生产者健康的化学物品，但它的抛光效果却能够达到传统方法很难达到的高品质，抛光速度也是传统抛光方法望尘莫及的，生产成本远远低于传统抛光成本.等离子抛光工艺还有退掉镀膜的功效，只要通过特定的抛光剂，在短的时间就可以完全脱掉镀膜。这样大大节省脱膜时间。对于那些表面真空镀氮化碳或氮化铬的产品，脱膜相对较难，通过等离子抛光也能完全将表面膜层去除干净，但是抛光时间需要延长一倍以上。虽说抛光时间相对增加，但仍然不会伤到基材表面，相反会大大增加返镀的良率。
金属表面处理 等离子抛光 电化学原理
陈宁英
东莞市领升等离子抛光设备有限公司公司
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2009-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）