中频反应溅射镀制光学薄膜的研究
(0) 本文采用中频反应溅射的方法,在玻璃表面沉积高折射率氧化物与低折射率氧化物材料,制备出具有一定光学性能、强附着力的薄膜.利用分光光度计对其光谱分析,并展望了中频反应溅射镀制光学薄膜的发展方向与应用前景.镀膜工艺中，溅射沉积速率是关键，电源功率输出恒定，氢气与氧气的配比以及真空度稳定是溅射速率速率的前提条件，同时镀膜时间的精确控制是能否制备出光学薄膜的最重要的工艺条件.通过设计光谱曲线与分光光度计算测量得到的光谱曲线还存在一定的差距，主要是由于:反应气体与靶材作用得到的材料折射率需要进一步稳定.中频电源受外部电网影响，输出功率有一定的波动.靶材的溅射速率有待提高，减少材料吸收对膜层造成的影响.
光学薄膜 制备工艺 沉积速率 功率控制
刘志宇 王小辉 卫红 熊树林
广州市光机电技术研究院 广州510667 深圳杰瑞表面技术有限公司 518204
国内会议
广州
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124-127
2009-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）