刻蚀腔室内衬用抗等离子体腐蚀涂层的研究现状

摘要：

干法刻蚀(等离子体刻蚀)技术产生的等离子体会对半导体制造工艺以及微电子Ic制造工艺中的刻蚀腔室内衬产生腐蚀.本文综述了国内外腔室防等离子体腐蚀用材料的发展历程与现状,从耐等离子体刻蚀材料、悬浮液等离子喷涂技术和在线监测技术领域的发展展望了抗等离子体刻蚀涂层的未来发展趋势。

关键词： 等离子体刻蚀 腔室内衬 抗腐蚀涂层 在线监测

作者: 张有茶 夏洋 贾永昌 张庆钊 王文东 刘金虎 王聪瑜

作者单位: 北京美桥电子设备有限公司,北京100022;北京科技大学,北京100083 中科院微电子研究所,北京100029 北京廊桥材料技术有限公司,北京100089 北京科技大学,北京100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2014年全国热喷涂技术经验交流会暨《热喷涂技术》期刊年会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 19-23

在线出版日期: 2014-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）