一种高分子产酸剂及其组成的248-nm光致抗蚀剂
以对苯乙烯磺酸钠、乙酰氧基苯乙烯和甲基丙烯酸酯为单体通过自由基聚合反应得到多元共聚物,进一步与鎓盐卤化物交换反应得到含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物,再与二碳酸二叔丁酯(t-BOC)进行反应,可获得既含光产酸基团又含酸敏基团的聚合物.它在248nm处的光透明性较好,可用于深紫外光刻胶.采用KrF激光步进曝光设备对这些含光产酸基团的聚合物组成的单组份或二组份化学增幅型光致抗蚀剂的成像表现进行了评价,在50-60mJ·cm-2曝光量下,获得了线宽分辨率为0.175μm的高质量正性光刻图形.
光致抗蚀剂 制备工艺 聚合物光产酸剂 成像性能
王倩倩 张晨颖 王力元
北京师范大学化学学院,北京100875
国内会议
广西北海
中文
114-117
2016-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）