光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制

摘要：

CVD金刚石因其优越的物理化学特性被应用到许多高科技领域中,但目前抛光方法存在着效率低、精度差等诸多问题,无法满足高科技领域对金刚石高效超光滑的表面抛光.本文提出利用二氧化钛光催化辅助化学机械抛光方法实现CVD金刚石的高质量加工,为此研制一种用于金刚石抛光的二氧化钛光催化氧化原理结合辅助化学机械抛光液.首先,本文根据光催化原理搭建了相应的化学机械抛光装置.然后,采用甲基橙溶液氧化变色及溶液氧化还原电位(ORP)表征抛光液的氧化性,最后,对CVD金刚石进行了光催化辅助化学机械抛光.结果表明,P25型二氧化钛光催化活性最高,每100ml纯水中加入1ml的H2O2与0.2ml的H3PO4对催化剂活性影响最大,氧化还原能力较高,采用其加工CVD金刚石使得抛光表面变得极为光滑.

关键词： 金刚石 化学气相沉积 化学机械抛光 光催化 二氧化钛

作者: 苑泽伟 杜海洋 何艳 张悦

作者单位: 沈阳工业大学机械工程学院 沈阳110870

会议类型: 国内会议

会议名称: 2016年中国(国际)光整加工技术及表面工程学术会议暨2016年中国光整加工技术产学研协调发展论坛

会议地点: 辽宁鞍山

会议语种:中文

页码: 53-56

在线出版日期: 2016-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）