化学机械抛光超薄SUS304不锈钢抛光液研究

摘要：

柔性显示已成为下一代显示技术的研究热点,不锈钢材料将成为柔性大尺寸显示器衬底的主要材料之一,而化学机械抛光(CMP)技术将是实现不锈钢材料表面超光滑、无损伤、最实用加工技术之一.本文采用正交实验,研究了pH值、磨粒粒径、分散剂、氧化剂、磨粒含量、缓蚀剂对材料去除率和表面粗糙度的影响,得到了不同目标要求的抛光液基本成分配比,为进一步研究不锈钢化学机械抛光液提供参考.

关键词： 不锈钢片 化学机械抛光 抛光液 材料去除率 表面粗糙度

作者: 秦洪权 王永胜 李庆 陈佳鹏 刘振辉 苏建修

作者单位: 河南理工大学,机械与动力工程学院,焦作,454000 驻马店技师学院,机械工程系,驻马店,463000 河南科技学院,机电学院,新乡,453003

会议类型: 国内会议

会议名称: 2016年中国(国际)光整加工技术及表面工程学术会议暨2016年中国光整加工技术产学研协调发展论坛

会议地点: 辽宁鞍山

会议语种:中文

页码: 61-62

在线出版日期: 2016-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）