软氮化-激光淬火复合强化工艺研究
针对软氮化氮化层硬度较低,承载能力差的问题,采用半导体激光在对30CrNiMo软氮化工件表面进行了激光淬火复合强化工艺研究.研究了激光工艺参数对复合强化的层深、金相组织和显微硬度的影响规律,得到了以下结论：(1)软氮化层深为0.43mm，经过激光淬火复合强化后，硬化层深度增加。在扫描速度较慢时，激光功率对硬化层深影响更大些：随着扫描速度的增加，激光功率对层深的影响逐渐减小。(2)复合强化层表面为隐针状含氮马氏体，次表面为无氮马氏体。(3)激光功率过高导致基体熔化后，软氮化层的表面硬度有一定下降：当激光功率为1100W，扫描速度为600mm/min时，激光复合强化淬硬层硬度能达到890HV0.1，硬化层深为0.6mm，为最佳复合强化工艺。
工件表面 软氮化工艺 激光淬火 金相组织 显微硬度
朱金凯 沈君 代贤祝 王爱华 莫衡阳 熊大辉 刘肃人
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2016-06-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）