硫化钠对含氯薄层液膜下锡电化学迁移行为的影响

摘要：

在含氯薄液膜环境下,首次研究了Na2S对锡电化学迁移过程中枝晶生长的抑制行为及机制.结合原位光学显微观察和电化学监测,以及X射线衍射(XRD)分析手段对Na2S的作用机理进行了研究.同时,对不同浓度Na2S的抑制效果进行观察.结果表明,不同浓度Na2S对薄液膜下锡电化学迁移的抑制效果不同,当加入足够浓度Na2S时,可以有效抑制含氯薄液膜下锡的电化学迁移行为.

关键词： 锡 电化学迁移 硫化钠 抑制机理 含氯薄液膜

作者: 廖伯凯 陈振宇 邱于兵 张国安 郭兴蓬

作者单位: 华中科技大学化学与化工学院,材料化学与服役失效湖北省重点实验室,武汉430074

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十九届全国缓蚀剂学术讨论会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 1-3

在线出版日期: 2016-08-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）