SiC基HFCVD金刚石薄膜的制备及镜面抛光
金刚石材料具有优异的光学性能，虽然SiC基CVD金刚石薄膜中不可避免地存在一定缺陷，会影响其光学应用，但是通过薄膜类型优选、工艺优化制备的高质量SiC基金刚石薄膜仍有望成为光学镜面的一种重要的备选材料。采用纯机械抛光的方法很难完成SiC基CVD金刚石薄膜表面、尤其是微米金刚石表面的高质量精密抛光，因此有必要结合目前已成熟的或正在研究中的各类新型抛光技术，包括SiC光学反射镜面抛光加工中常用的各类技术、金刚石聚晶复合体抛光加工中常用的各类技术以及CVD金刚石薄膜抛光加工中已经得到一定研究和应用的加工技术，进行系统深入的对比研究，实现各类金刚石薄膜的镜面抛光。
金刚石薄膜 制备工艺 镜面抛光 光学性能
王新昶 申笑天 孙方宏 沈彬
上海交通大学机械与动力工程学院
国内会议
湖南湘潭
中文
3-3
2015-11-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）