磁场辅助场致射流微细放电加工的研究
本文采用周期性驱动的环形旋转磁场研究了场致射流微细放电加工中等离子体的偏移和发散问题.实验研究发现,线圈中励磁电流的增加能够直接导致加工区域面积的减小,从而间接证明了等离子体放电的集中.理论分析进一步揭示了引起放电集中的原因.
场致射流 微细放电加工 等离子体 放电偏移 环形旋转磁场
张亚欧 康小明 赵万生
上海交通大学机械系统与振动国家重点实验室,上海200240
国内会议
北京
中文
30-34
2016-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)