基于UV光高级氧化技术降解有机硅工业废水的研究
(0) 近年来随着科技的发展,有机硅材料已广泛地应用到汽车、机械、电子电气、皮革、造纸、纺织、金属、油漆、医药医疗等关乎人类生活的各个领域.而在有机硅工业生产过程中,会产生大量的工业废水排放,此废水成分复杂,含有较高浓度的COD,对微生物的活性有较强的抑制作用,不易被生物降解.目前,虽然有机硅工业高速发展,有机硅生产技术日趋成熟,但对有机硅生产废水处理工艺的研究才刚刚开始,大多工艺采用物化法处理,工艺较为单一,运行成本也偏高,且排放的废水水质指标往往难以达到国家标准,造成严重的环境污染问题.而近年来高级氧化工艺由于其具有氧化能力强、氧化剂本身稳定性好、氧化剂利用率高等优点，在废水处理的领域中有着广泛的应用前景。本文则采用基于紫外光（UV)高级氧化技术处理有机硅废水。有机硅废水取自实厂，COD高达2500mg/L，本文分别对比了三种不同氧化剂（过氧化氢，过一硫酸氢钾复合盐以及过二硫酸钠）在UV的催化下对于实际废水的降解效果，即采用UV/H2O2，UV/PMS，UV/PDS体系分别降解有机硅工业废水，探究各个体系最佳条件的同时利用分子荧光光度计分析废水中的溶解性有机物的去除效果，并发现腐殖酸类有机物得到有效去除。同时探究两种不同自由基的作用机理与效果对比。研究结果表明，基于UV高级氧化工艺与分别单独使用UV和三种氧化剂的技术相比，可以非常明显的提高有机硅实厂废水的降解效果并且有效去除色度。
有机硅生产废水 紫外光 高级氧化 氧化剂 降解机制
艾佳 张晖
武汉大学资源与环境科学学院 武汉430079
国内会议
中国化学会第十三届全国水处理化学大会暨海峡两岸水处理化学研讨会
南京
中文
235-235
2016-04-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）