不同浓度氮气对于MPCVD法生长纳米金刚石薄膜的影响
采用微波等离子体化学气相沉积法,以N2/H2/CH4为气源,通过改变反应气氛中的N2浓度(10％～30％)制备了金刚石薄膜.采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸以及薄膜质量进行了分析,研究了不同浓度氮气对于沉积金刚石薄膜的影响,结果表明:当氮气浓度低于30％时,沉积的金刚石薄膜晶粒尺寸变化不明显,表面平整度较好,氮气浓度达到30％时,金刚石晶粒增大,缺陷增加;随着氮气浓度增加,薄膜中金刚石相含量下降,同时,金刚石趋向于(111)面优先生长.
纳米金刚石薄膜 微波等离子体化学气相沉积法 氮气浓度 晶粒尺寸 表面平整度 薄膜质量
王小安 汪建华 孙祁 黄平
武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430074 武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北 武汉 430074;中国科学院 等离子体物理研究所,安徽 合肥 230031
国内会议
南京
中文
145-148
2015-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）