浅析磁控溅射氧化锡镀膜工艺
本文通过对磁控溅射氧化锡镀膜工艺的研究,指出在不同溅射功率、不同工艺气体流量下,如何稳定、高效地控制氧化锡磁控溅射镀膜生产工艺.通过对磁控溅射氧化锡工艺的研究，可以看出在氧化锡溅射功率较低时，使用较小的氧气和氩气流量，节约成本，在氧化锡溅射功率较高时，使用较大的氧气和氩气流量，使阴极溅射更加稳定。生产过程中要密切观察阴极电压，发现偏离初始值太多时，应及时采取措施，避免产生次品。不同的镀膜生产线，有不同的工艺环境，我们应该根据自己的实际情况，在不同溅射功率、不同工艺气体流量下，选择合适的气体流量组合，稳定、高效地控制氧化锡磁控溅射生产工艺。
低辐射镀膜玻璃 磁控溅射 氧化锡 气体流量 阴极电压
郭明 张佩佩
金堆城洛阳节能玻璃有限公司 河南洛阳 471202 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 河南洛阳 471000
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2013-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）