磁控溅射制备纳米银膜的微结构及光学常数研究

摘要：

采用直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了一组工艺参数不同的纳米银(Ag)薄膜,用原子力显微镜(AFM)观察了表面形貌,分析了衬底温度、工作气压等工艺参数对Ag薄膜表面粗糙度的影响.结果表明:随着衬底温度从室温增大到593K,折射率n逐渐减小.

关键词： 银薄膜 磁控溅射法 工艺参数 表面粗糙度 折射率

作者: 唐运海 沈娇艳 程新利 秦长发 潘涛 王冰 王文襄

作者单位: 苏州科技学院数理学院,江苏苏州215009 昆山双桥传感器测控技术有限公司,江苏昆山215325

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国敏感元件与传感器学术会议

会议地点: 昆山

会议语种:中文

页码: 178-180

在线出版日期: 2012-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）