石英摆片双面精密抛光工艺技术
在新引进日本抛光机9B-6P上进行石英摆片抛光,经过以下几点技术创新,增加十字沟槽抛光垫、抛光料粒径控制、抛光压力优化,针对抛光过程中出现的缺陷,提出解决方案,摸索出新的工艺参数.与原来工艺比较,试验证明选择的工艺参数匹配合理,抛光成品率由80％提高到90％以上,获得表面无划道、无麻坑、无桔皮,平整度≤3μm,平面度≤2光圈,Ra=0.025μm的石英摆片.
力平衡加速度表 石英摆片 抛光工艺 参数优化 表面质量
谭刚 王林林 吴嘉丽
中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621900
国内会议
昆山
中文
368-370
2012-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）