HfO2薄膜厚度参数的XRR表征

摘要：

由于HfO2薄膜具有许多优异的物理特性,成为最好的高温陶材料，使它在现代电子学器件方面早已获得应用.本文以原子层沉积(ALD)技术在Si(001)衬底上制备的超薄非晶HfO2薄膜样品为典型实例,简要介绍X射线反射率(XRR)方法测量该薄膜厚度的原理，采用英国Bede公司的Dl型高分辨x射线衍射仪，采用CuKal辐射（管电压为40kV，管电流为40mA)，采用一种小角度的ω/2θ扫描方式分析了两个不同厚度的HfO2样品,对两个不同厚度的HfO2薄膜的XRR谱图进行了详细分析,通过对实测XRR曲线和理论计算拟合,准确获得了两个样品的各膜层厚度信息.

关键词： 二氧化铪薄膜 膜层厚度 X射线反射率 性能表征

作者: 姬洪 向勇 毕闯 宋远强 李白海

作者单位: 电子科技大学能源科学与工程学院,成都,611731

会议类型: 国内会议

会议名称: 综合电子系统技术教育部重点实验室暨四川省高密度集成器件工程技术研究中心2012学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 387-390

在线出版日期: 2012-12-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）