微观组织调控对氮化硅强度及热导率的影响

摘要：

为了通过调控氮化硅陶瓷中-Si3N4柱状晶形貌以得到兼具高热导率和高强度的陶瓷,以不同β-Si3N4/α-Si3N4配比粉末为起始原料,添加Y2O3和MgO为烧结助剂,采用放电等离子烧结技术(SPS)和后续高温热处理制备烧结致密的氮化硅陶瓷.结果表明:随着-Si3N4粉末含量的增加,烧结后异常长大β-Si3N4柱状晶减少,试样抗弯强度下降,同时-Si3N4柱状晶平均长径比的减小使得晶粒堆积密度减小,柱状晶体积分数响应增加,晶间相含量减少,热导率提高.

关键词： 氮化硅陶瓷 制备工艺 微观形貌 热导率 抗弯强度

作者: 刘幸丽 宁晓山 Yosuke Takahashi

作者单位: 清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084 Noritake Co.Ltd.,470-0293 Japan

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十八届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点: 广东清远

会议语种:中文

页码: 270-273

在线出版日期: 2014-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）