温度和保温时间对合成氧氮化硅的影响
氧氮化硅(Si2N2O)是SiO2-Si3N4系统中唯一的化合物，具有热震稳定性好、抗氧化性能好、耐腐蚀、抗蠕变、高致密度、低膨胀和高温强度高等优点，是一种优良的高温结构材料和耐火材料。以单质Si粉和SiO2微粉为反应原料,在真空氮气炉中以高纯氮气保护,合成制备了Si2N2O.研究了反应温度(1400,1420,1440,1460,1480和1500℃)和保温时间(2,3,4和5h)对合成Si2N2O的影响,利用XRD、SEM、EDX和TEM等手段对合成产物的相组成和形貌进行了表征.结果表明:反应温度为1460℃并保温3h可以合成高纯的微米级片状和板状的Si2N2O,此时产物中Si∶N∶O非常接近于Si2N2O理论原子比2∶2∶1.
耐火材料 氧氮化硅 制备工艺 反应温度 保温时间
聂建华 文晋 邱文冬 赵伟 尹国恒 梁永和 尹玉成 徐超
武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,湖北武汉430081 上海宝钢工业技术服务有限公司,上海201902
国内会议
广东清远
中文
475-477
2014-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）