氧化石墨烯铬离子印迹材料的制备及其除Cr(Ⅲ)性能研究
针对制革废水二级处理出水的Cr(Ⅲ)去除，采用表面离子印迹技术制备了磁性氧化石墨烯表面Cr(Ⅲ)离子印迹材料Fe3O4@SiO2-GO ⅡP，探讨了pH和废水中共存金属离子对其Cr(Ⅲ)吸附性能的影响，并就其去除实际制革废水中Cr(Ⅲ)的性能进行了测试和评价。结果表明：制备的Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP，其表面形成的Cr(Ⅲ)印迹空穴，对废水中的Cr(Ⅲ)具有较高的选择吸附性能；pH对其Cr(Ⅲ)吸附性能具有显著影响，适宜的pH为6.1左右；对于Cr(Ⅲ)浓度为2.65 mg/L的制革废水二级处理出水，Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP投加剂量为3～4 g/L时，出水Cr(Ⅲ)浓度可达到GB30486-2013要求的最为严格的标准；对吸附饱和的Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP，可采用0.1 mol/L的HC1溶液进行洗涤和再生。
印迹材料 氧化石墨烯 制备工艺 铬金属离子 吸附性能
李建政 李怀
哈尔滨工业大学城市水资源与水环境国家重点实验室,黑龙江哈尔滨150090
国内会议
厦门
中文
351-357
2016-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）