真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响
薄膜镀制是固态的膜层材料在真空条件下蒸发或者溅射,经过气相传输,在基片表面沉积成薄膜.在镀制过程中,各种镀制工艺参数都影响着薄膜的性能,因此,在确定了反应气体、基片材料、压强控制、膜厚监控、真空设备、离子源等主要工艺参数的情况下分析真空度、沉积速率、基片温度、离子轰击等镀制工艺参数对薄膜微观结构和化学成分的影响，从而产生对薄膜光学性质、机械性质和抗激光损伤等特性的变化。
薄膜技术 真空镀制 工艺参数 微观结构 化学成分
孔建军
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2010-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）