勋章菊在树基彩化中的应用-Ⅱ
为探讨光照对勋章菊生长的影响,以勋章菊为试验材料,对不同树冠树荫下光照强度和人工模拟树荫光强对勋章菊生长状况的调查,探讨了适合勋章菊正常生长和应用的光照条件.结果表明:光照强度在7000lx以下,勋章菊不能正常生长,且不能开花,植株株型、株高、芽数和花蕾数明显异于对照区,而在覆盖率为1/3和2/3的光照下,勋章菊长势良好,株型优美,花蕾和新芽明显较多.这一结果为勋章菊的树基建植和景观应用提供科学依据.
勋章菊 光照强度 模拟树荫 生长性能
李强 王宁 徐建峰 皇甫兴成 王永亮 王彩晨 盛亚丹 陆小平
太仓市林业站,太仓215400 苏州大学,苏州215123
国内会议
银川
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781-785
2011-08-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）