激光诱导化学气相沉积(LCVD)制膜技术

摘要：

本文介绍了用LCVD的方法制备金属Cr薄膜,用扫描电子显微镜法(SEM),X射线光电子谱,X射线衍射方法对所沉积薄膜进行了表征,并对现阶段LCVD技术的难关进行了总结.针对目前存在的技术问题和发展方向主要归结为：研究LCVD现阶段出现的主要问题是激光再通光窗口处沉积薄膜，无法对其适当加热，严重影响了薄膜的纯净度与厚度。研究分析LCVD过程中各主要工艺参数诸如激光功率、基体预处理和反应气压等对所制薄膜质量的影响，促使LCVD技术理论化，成熟化等。

关键词： 金属薄膜 铬金属 化学气相沉积法 性能表征

作者: 刘丽 韦建军 吴卫东 王雪敏 彭丽萍

作者单位: 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610054 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 2011中国功能材料科技与产业高层论坛

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 974-977

在线出版日期: 2011-11-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）