氮化碳薄膜的XPS及FTIR研究
随着科学技术和社会需求的发展，薄膜材料己成为一种具有广阔应用前景的功能材料。氮化碳薄膜凭借其高弹性、高硬度、低摩擦系数、优良的抗腐性能及优异的光电性能，在防摩损涂层材料、绝缘材料、光学涂层材料、太阳能电池等各个领域具有光明的应用前景。采用空心阴极等离子体增强化学气相沉积方法,在甲烷-氨气-氢气体系下,制备出了氮化碳薄膜.利用X射线光电子能谱及傅里叶变换红外吸收谱对薄膜的成分及微观结构进行了测试和表征.结果表明:样品的氮含量在3.5～8.6 at.％之间,氮主要以sp2CN的形式存在,高的氮含量有利于C-N键的形成.
光学材料 氮化碳薄膜 化学气相沉积方法 X射线光电子能谱 傅里叶变换红外吸收谱 微观结构 氮含量
倪静
河南科技大学,物理与工程学院,洛阳,中国,471003
国内会议
重庆
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996-999
2011-11-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）