深紫外准分子激光相移光刻

摘要：

讨论相移掩模提高光刻分辨率的基本原理和物理机理。导出了光刻成像的计算机模拟公式，介绍了我们自行设计、建立的ＫｒＦ准分子激光相移光刻实验曝洪系统，并给出几个计算结果。

关键词： 分辨率 相移掩模 准分子激光光刻

作者: 孙方 侯德胜 冯伯儒

作者单位: 科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都) 科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 312～314

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）