二次离子质谱纳米颗粒深度剖析过程中的熔融研究
利用二次离子质谱技术(Tof-SIMS)表征纳米颗粒具有广泛的应用前景.然而在分析过程中,当纳米粒子受到高能量的一次入射离子束轰击后而发生的熔融现象却一直没有得到重视.以核壳结构和普通结构的纳米颗粒为实例,采用不同类型和不同能量的一次离子束对二次离子质谱纳米粒子深度剖析分析中遇到的熔融问题进行了研究.新型氩气和C60大分子团簇离子束能够产生较高的能量,从而得到较高的溅射产额.由于这两种入射离子束均由多个小分子组成,当入射离子束接触溅射样品表面时,集中在单位原子层表面单个分子所携带的能量并不高,因此纳米粒子只在边缘区域观察到粒径变小和部分融化现象.而铯源和O2源具有固有超低能量的特点,单次离子撞击溅射样品的表面,纳米粒子只发生了轻微的熔融.这些结果与扫描电子显微镜下观察到的SIMS深度剖面一致.如果能够给纳米粒子提供一个有效的散热方法,可以预计纳米颗粒SIMS 深度剖析将能提供更多更有意义的信息.
纳米颗粒 熔融现象 二次离子质谱技术
杨莉 Martin P Seah Ian S Gilmore
西交利物浦大学化学系,苏州工业园区仁爱路111号 Analytical Science Division,National Physical Laboratory,Teddington,Middlesex TW110LW,U.K.
国内会议
北京
中文
33-34
2014-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）