不同薄膜沉积工艺对Au结构和ZnO电阻性能的影响

摘要：

本文采用蒸发和溅射的制备工艺在ZnO薄膜上制作Au薄膜,研究不同沉积方法对Au膜结构的影响,表明溅射比蒸发制备的薄膜致密性更好.重点研究了不同溅射功率对成膜及对Au膜下ZnO薄膜电阻的影响,结果表明采用溅射工艺在100W溅射功率的条件下制备的Au薄膜结构较好且对ZnO电阻影响最小.

关键词： 压电材料 氧化锌薄膜 金薄膜 溅射工艺 蒸发工艺

作者: 王旭光 唐彬 席仕伟

作者单位: 中国工程物理研究院电子工程研究所 四川绵阳621999

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国敏感元件与传感器学术会议

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 565-568

在线出版日期: 2014-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）