高分辨率i-线正性光致抗蚀剂

摘要：

本文制备了二种正性i-线光刻胶.一种由具有高的酸解活性的酯缩醛聚合物与具有光产酸特性的2,1,4-重氮萘醌磺酸酯组成二组分化学增幅型i-线光致抗蚀剂.另一种由聚对羟基苯乙烯与重氮萘醌磺酰氯反应得到的重氮萘醌磺酸酯组成单组分非化学增幅型i-线光致抗蚀剂.通过激光干涉曝光实验及SP共振曝光实验,对光刻胶进行了评价,二种光刻胶均获得了高的感度和分辨率.

关键词： i-线光致抗蚀剂 制备工艺 感光度 分辨率

作者: 魏琪 王力元

作者单位: 北京师范大学化学学院,北京 100875

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国感光学会第九次会员代表大会暨2014年学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 75-79

在线出版日期: 2014-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）