一种新型深紫外光刻胶
本文利用t-BOC保护的对羟基苯乙烯与马来酸酐衍生物的交替共聚物作为成膜树脂.该聚合物在248nm处有较好的透明性,在常用有机溶剂中具有良好的溶解性.由于结构中含有BOC基团使得该聚合物具有好的酸解活性,加入光产酸剂可组成一种新型深紫外两组分化学增幅型光致抗蚀剂.曝光过程产生磺酸,通过120℃后烘使BOC保护基团发生酸致分解,从而使得曝光区与未曝光区溶解度产生大的差异,可用稀碱水显影得到正性图像.
光致抗蚀剂 化学增幅 制备工艺 BOC基团 酸解活性 紫外线吸收性能
张晨颖 王力元
北京师范大学化学学院,北京 100875
国内会议
北京
中文
130-132
2014-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）