纳焦点X射线源技术的现状与应用
纳焦点X射线源是现代X射线高清晰成像最为关键的部件之一,在工业无损探伤、生命科学、材料科学等领域的研究和应用中具有重要的意义.介绍了纳焦点X射线源主要技术参数和国内外研究现状,以及其在数字射线成像(DR)和计算机层析扫描(CT)方面的广泛应用;探讨了纳焦点X射线源的不足及其未来技术发展趋势.高亮度的纳焦点X射线源是现代X射线高清晰成像最为关键的部件之一，在工业无损探伤、生命科学、材料科学等领域的科学研究和实际应用中具有重要的意义。论文介绍了纳焦点X射线源有效焦点尺寸、靶功率、FOD、辐射角等主要技术参数和国内外纳焦点X射线源现有技术水平，以及在数字射线成像(DR)和计算机层析扫描(CT)方面的广泛应用。分析探讨了纳焦点X射线源存在的不足之处，如亮度低、X射线剂量稳定性差等，提出了克服这些不足的方法和途径，并倡导进行纳焦点阵列射线源的研究和应用，对研究和开发快速、超高分辨率的静止微纳CT仪具有积极的意义，也是纳焦点X射线源技术的一个重要研究方向之一。
纳焦点X射线源 数字射线成像 计算机层析成像
李晓斌 周日峰 周亚玲
重庆大学 光电技术及系统教育部重点实验室ICT研究中心 重庆 400044
国内会议
重庆
中文
96-103
2014-10-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）