多层膜光栅传递标准样品的抛光技术研究

摘要：

多层膜光栅传递标准是计量和表征纳米尺度器件线宽小于50nm的有效工具,光栅样品的制备主要包括镀膜、切割、胶合、抛光和选择性刻蚀.抛光技术对于光栅样品截面的粗糙度有着较大的影响,而粗糙度是影响多层膜光栅能否作为传递标准的一个重要因素.采用不同的抛光方式,利用原子力显微镜(AFM)对其截面进行表征,通过优化抛光技术不断降低截面的粗糙度,制备出了粗糙度小于1nm的样品.

关键词： 多层膜光栅 抛光技术 粗糙度

作者: 赵阳 程鑫彬 李同保

作者单位: 同济大学物理科学与工程学院,上海200092

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市激光学会2015年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 124-124

在线出版日期: 2015-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）