复杂光学元件小磨头抛光盘运动分析
随着光学技术的发展,新一代的光学系统中所使用的光学元件的口径越来越大,精度也越来越高,这对光学加工技术提出了更高要求.而国内外广泛采用的计算机表面成型技术(Computer Controlled Optical Surfacing,CCOS)有着速度快,精度高,智能化的特点而被深入研究.通过控制磨头运动速度大小来控制每个区域的驻留时间，在这过程中不可避免的会出现速率的变化以及运动方向的改变，而这类突变都会对光学表面产生不良的影响。本文目的在于分析两类突变对面形影响程度的差别，设计实验分别对于同方向速率变化和同速率方向变化做了两组实验(同方向速率变化采用l10mm/s突变到1mm/s，同速率方向变化采用10mm/s速率不变，作直角拐弯动作)，通过处理面形数据而得到抛光过程中的去除量。结合实验结果得到了结论，同方向速率变化带来的面形影响远大于同速率方向变化所造成的影响。
光学元件 抛光盘 运动速度 面形质量
万嵩林 张祥朝 何晓颖 徐敏
复旦大学上海超精密光学制造技术工程中心 上海市淞沪路2005号 200438
国内会议
上海
中文
154-154
2015-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）