193nm氟化物减反射膜在DUV/VUV波段光学性能的时效性研究

摘要：

193nm氟化物减反射膜放置一段时间,性能会发生变化,本文主要研究其光学性能的时效变化.真空紫外分光光度计测试结果显示:两批不同膜系的减反射膜测试片的中心波长向长波方向以不同速率漂移,反射率低于0.5％的带宽变化不一致.从膜系和材料参数方面对193nm减反射膜变化进行了理论分析.

关键词： 减反射膜 氟化物 光学性能 时效性

作者: 赵家 汪琳 张伟丽 易葵 邵建达

作者单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800;上海大学,材料科学与工程学院,电子信息材料系,上海200444 上海大学,材料科学与工程学院,电子信息材料系,上海200444 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市激光学会2015年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 157-158

在线出版日期: 2015-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）