退火对Nb2O5薄膜的折射率和厚度的影响

摘要：

Nb2O5是一种具有高折射率、化学稳定性和耐腐蚀性的半导体材料,作为一个优秀的镀膜材料,它已被广泛应电致变色材料、光学系统、催化和气体传感器.同时,Nb2O5也是一种具有多种晶体结构的氧化物,人们发现它存在TT-Nb2O5(六方),T-Nb2O5(正交),M-Nb2O5(四方)和H-Nb2O5(单斜)等晶体结构,这些结构可以通过加热得到.在这些结构中,TT-Nb2O5可以在较低的温度处理获得,而T-Nb2O5可以通过较高的温度处理获得.不同退火温度对Nb2O5薄膜的晶体结构、厚度和光学性质的影响.

关键词： 半导体材料 五氧化二铌薄膜 退火温度 晶体结构 厚度控制 光学性质

作者: 赵冬冬 郑玉祥 张金波 杨尚东 杨辽 刘谆骅 陈良尧

作者单位: 复旦大学光科学与工程系,上海市邯郸路220号,200433

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市激光学会2015年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 171-171

在线出版日期: 2015-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）