偏振分光膜中节瘤缺陷的损伤研

摘要：

研究1064nm HfO2/SiO2偏振分光膜中节瘤缺陷的激光损伤,设计长波通偏振分光膜,对偏振片中的人工节瘤缺陷的损伤阈值进行测试,并用FTDT模拟偏振分光膜中节瘤缺陷的电场增强,验证了电场增强对偏振片中节瘤缺陷的激光损伤产生重要影响.

关键词： 激光薄膜 偏振分光膜 节瘤缺陷 损伤阈值

作者: 谢凌云 阿卜杜萨拉木·图尼亚孜 程鑫彬 王占山

作者单位: 先进微结构材料教育部重点实验室同济大学,上海200092;精密光学工程技术研究所同济大学物理科学与工程学院,上海200092

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市激光学会2015年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 177-177

在线出版日期: 2015-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）