高功率脉冲磁控溅射制备TiNx涂层研究

摘要：

采用高功率复合脉冲磁控溅射技术(HPPMS)在316不锈钢、硬质合金基体上制备了TiN薄膜,首先研究了氩氮流量比、气压、脉宽等工艺参数对HPPMS放电的影响.分析了不同N2流量下TiNx膜层的沉积速率、硬度、晶体生长取向、摩擦磨损等性能,并在相同的平均靶电流下与直流磁控溅射制备的TiN薄膜对比.结果表明:HPPMS制备的膜层更加致密,在氩氮流量比为7.4∶1时膜层显微硬度达2470HV,摩擦磨损性能也好于直流磁控溅射制备的TiN.

关键词： 氮化钛薄膜 高功率复合脉冲磁控溅射 显微硬度 磨损性能 致密性

作者: 尹星 沈丽如

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 64-72

在线出版日期: 2014-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）