基于实时控制灌溉系统的温室嫁接黄瓜土壤水分传感器合理埋设位置研究
实时控制灌溉系统可进行精确灌溉,提高水的利用效率,土壤水分传感器在控制灌溉系统中不可或缺,控制灌溉系统中首要解决问题之一是传感器的合理埋设位置.为研究实时控制灌溉系统中温室嫁接黄瓜的土壤水分传感器合理埋设位置,试验以白籽南瓜博强4号品种为砧木,以黄瓜博美626品种为接穗(天津市德瑞特种业有限公司),将传感器距滴头水平距离与距滴头垂直距离结合后设定6个处理,各处理传感器埋设位置不同但灌溉水分上下限设定相同,根据传感器测定的土壤含水率指导控制灌溉,其中幼苗期灌溉下限至上限为田间最大持水率的65％～75％,初花期灌溉下限至上限为田间持水率的75％～85％,坐果期灌溉下限至上限为田间持水率的80％～90％.试验中分析不同处理黄瓜的生长指标、光合指标、灌水指标、产量及品质指标,系统研究土壤水分传感器合理埋设位置.结果表明:利用埋设位置为距滴头水平距离10 cm、距滴头垂直深度10 cm的传感器控制灌溉,黄瓜生长指标较好,根总长、根总表面积和根总体积显著高于其它处理,可溶性固形物量、可溶性糖量和糖酸比较高,产量较高,灌溉水分生产率最高.因此,嫁接黄瓜种植中将土壤水分传感器埋设于距滴头水平距离10 cm、距滴头垂直深度10 cm为宜.
黄瓜 灌溉系统 土壤水分传感器 埋设位置
李堃 李建设 吴素萍 高艳明
宁夏大学农学院 宁夏银川750021 宁夏大学数学计算机学院 宁夏银川750021
国内会议
太原
中文
33-33
2015-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）