应用于短波段的减反射薄膜研究

摘要：

以Si为衬底设计并制备了四层结构的减反射薄膜,分别为TiO2、 YAG∶Ce和两种不同孔隙率的SiO2纳米柱膜层.薄膜在350-1100nm内的平均反射率为13.57％,在500nm以下平均反射率可低至16.6％,明显降低了短波段入射光的反射.

关键词： 减反射薄膜 电子束斜角蒸发 磁控溅射 硅衬底

作者: 康建 娄朝刚

作者单位: 东南大学电子科学与工程学院,南京,210096

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届华东三省一市真空学术交流会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 259-263

在线出版日期: 2015-05-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）