阵列型射流等离子体增强PMMA表面憎水性研究
提高绝缘材料表面憎水性可有效抑制绝缘材料表面闪络的发生.本文将大气压等离子体射流用于提高绝缘材料表面憎水性,在Ar/三甲基硅烷混合气体中产生稳定、均匀的射流阵列放电,为了满足大面积处理需要,将射流放电扩展为阵列的形式,用其对典型绝缘材料PMMA表面进行憎水性改性.采用接触角及表面能测量、扫描电子显微镜(SEM)和傅里叶红外光谱仪(FTIR)等手段研究处理前后表面特性变化.结果表明:处理后PMMA表面水接触角上升、表面能降低,表面形成一层珊瑚状凹凸结构,并引入多种含Si基团.在处理时间为180s时改性效果最好,表面水接触角由65.25o增加到105.23o,表面能由46.17mJ/m2减小到20.14 mJ/m2.
绝缘材料 聚丙烯酸甲酯 表面憎水性 大气压等离子体射流
丁正方 阮陈 方志 谈坚
南京工业大学电气工程与控制科学学院,南京,210009
国内会议
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2015-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）