低辐射银膜的团聚形貌与成分偏聚
针对磁控溅射法制备的离线低辐射(Low-E)银基多层膜,采用场发射扫描电镜的背散射电子像(BSE)结合能谱面扫描分布研究银膜受热产生的团聚形貌与团聚生长导致的成分再分布.结果表明,BSE形貌中的白亮区域为银原子聚集的富银区,相比之下,灰暗区域为贫银区.通过观察随热处理时间延长团聚的形貌变化,并由形貌与成分的对应关系来判断团聚形成过程中银原子的运动轨迹,进而获得银膜团聚的生长规律.最终,通过测试方块电阻随热处理时间的变化,掌握了银膜团聚程度与导电性能的对应关系.
离线低辐射镀膜玻璃 银基多层膜 团聚形貌 成分再分布 磁控溅射法 导电性能
孙瑶 王永斌 汪洪
中国建筑材料科学研究总院、国家玻璃深加工工程技术中心、绿色建筑材料国家重点实验室,北京100024
国内会议
江苏宿迁
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96-100
2015-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）